Аннотация к книге: Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Проведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. Приведены основные характеристики элементов микроструктур ИМС, получаемых в процессах ХОГФ, а также технологические характеристики самих процессов и используемых реагентов. Рассмотрены параметры оборудования для реализации процессов ХОГФ и проведен анализ его возможностей, достоинств и недостатков при осаждении функциональных слоев микросхем. Приведены основные электрофизические характеристики осаждаемых пленок.
Для инженеров-технологов и научных работников, использующих в своей практической работе химическое осаждение пленок из газовой фазы. Книга может быть полезна также студентам старших курсов, аспирантам и преподавателям ВУЗов.
| Автор/составитель | Киреев В.Ю., Столяров А.А. |
| Серия | Мир электроники |
| Год выпуска | 2006 |
| ISBN | 5-94836-039-3 |
Бесплатная Доставка по Европе (EU)*
*Для заказов свыше 40, - евро Подробнее
Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
- Модель: MYSH152569
- ISBN: 5-94836-039-3
- Наличие:
